该厂为品牌品牌半导体设备二极管封装检测工厂，研发整个过程中生产很大含光刻胶、树脂胶等提团伙无机物的工业废水，传统式方案整理体验差，急需用钱晋升进行改造。 废污水特征参数深入分析 主要污染问题源： 裁割考虑污废水 ：含硅粉、自动隐藏物（SS>500mg/L） 去胶生产废水 ：含光刻胶残余物物（COD自由高达8000-12000mg/L） 电镀工艺生活污水 ：进样器金、银等贵轻金属阴离子 冲洗废液：含氟化物（50-200mg/L） 研发鑫霖环保设计 用"一级空气氧化+MBR"搭档水平： 预解决單元 ： 旋流结晶除掉大科粒硅粉 化学式除氟（加药系统氯化钙型成氟化钙沉淀物） 内在处置第一单元 ： Fenton被氧化（H2O2/Fe2+）溶解生物大分子结构充分物（COD清理率60-70%） UASB活性污泥法的反应釜进这一步溶解（COD清理率>80%） MBR膜菌物发生催化反应器（PVDF空芯玻璃纤维膜，粒径0.1μm） 中水回用系统性 ： 反渗透膜法装制产水循环于生产方式线（循环率>65%） 操作实效 操作内外饮用水差距（对数正态分布）： COD从9500mg/L降落到45mg/L 氟化物从180mg/L降低8mg/L SS从480mg/L降为5mg/L 设备手动化方面高，一吨水治疗资金较原鑫霖环保调低22%，评为省部级干净制造示范片建设项目。