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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆制作业厂靠近西北地段,通常产生8寸大半导体器件晶圆,平均工业废水排污量约800吨。鉴于产生环节中操作大批量盐酸确定晶圆蚀刻,诱发工业废底层的水中氟化物溶液浓度万代高达200-300mg/L,远超国排污标(10mg/L下列)。 生活污水因素及收入 污废水 大部分来源于两个部门: 晶圆蚀刻生产工序 :含高酸度氟化物(HF)、盐酸及少量出巨资属 生物机械设备抛光处理(CMP)污水 :含nm级硅粒状、无机络合剂 机器设备洗涤废水处理方法 :含异丙醇、化学需氧量等无机物 净化处理施工工艺操作流程 通过"化学上的沉定物+混凝土沉定物+深度1过滤程序"三級处置装置: 一級整理 :加药系统氯化钙和氢氧化的钙,造成氟化钙奠定,氟化物取除率达85% 二次净化处理 :加PAC(汇聚氯化铝)和PAM(聚丙烯塑料酰胺),剔除橡胶胶体部分态废弃物物 三級治理 :借助多材质净化器和灵活性炭吸附物吸附物,满水后氟化物酸度不稳定性在8mg/L下列 关键因素机械还包括:pH会自动可以调节软件、斜管放置池、板框过滤机(污泥处理脱水烘干)。 终结作用 工程电脑运行五年期监测网数据源展现: 氟化物评均密度:7.2mg/L(压低欧洲国家的标准) COD清除率:92% 废水含水分率:≤65% 年回收分类处理氟化钙副商品约150吨,改变资源量化运用

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