半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
工程历史背景
该品牌专业化产出半导用高纯氟化氢和六氟化钨,生产废水氟氧浓度不高且物质繁杂。增加了工作工艺流程成果不安稳,氟化物排放口有时候超量。该项目创业21000万元的建设帮忙工作基础设施,设计工作技能500吨/天。
废水处理工艺化学物质及来源于
生产的废水主要的出于生产的系统清洁工作和气体洗衣机清洗:
氟铝离子氧化还原电位:1500-3500mg/L
含浓盐酸根铁离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含氢化物发生器钨、钼等材料要素
外理工序工作流程
面向高含量显著特点,所采用"采和+单级发展+膜净化处理"工艺流程:
污水处理收藏池:分级收藏其他酸度污水处理
结合响应池:分一阶段加药系统氢被脱色钠和氢被脱色钙,调节进而pH至7.5-8.
斜管积淀池发生反应池:加药系统PAC和PAM提高积淀目的
斜管结晶池:高效能固液区分
多媒介过滤系统器:弄掉微小颗粒物
反进行渗透设备:广度脱盐和除氟
生活污水精浓出现脱水处理系统:抽滤出现脱水处理后生活污水运输技术专业处治
手机在线检测整体:即时监视器氟铝离子含量和pH值
以后作用
整理系统的开机运行数据文件:
取水氟阳离子平衡氧化还原电位:2800mg/L
出液氟阴阳离子有机废气浓度:3.2mg/L(平衡)
氟我们要除率:99.9%以内
水使用率:高于65%
设备自然化的情况高,实现了焦化废水处里成本低较低30%,年回收公司氟化钙加工品的约400吨。